レーザーシステムのアプリケーション
固体レーザーおよびエキシマレーザー技術を応用したシステム製品で、レーザー精密加工プロセス向けにカスタマイズされた統合ソリューションを提供します。レーザー光源を使用する技術には、精密な光学システムの設計と正しいレーザー光源の選択が必要です。高安定・高精度位置決めプラットフォームの統合、製造プロセスに応じた精密レーザー加工システムのシステム統合・最適化を実現します。
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機械システム設計・開発
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アプリケーションソフトウェア制御開発
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光学レンズシステムの設計・開発
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レーザー光源の統合
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高精度位置決めシステム光源統合
プロセスアプリケーション:エキシマレーザーテンパリングELA、DPSSレーザースクライビング(レーザー切断、レーザースクライビング)、レーザードリリング(レーザードリリング)、レーザーパターン処理(レーザーパターニング)、レーザー金属穴あけ、レーザーレーザー切断、レーザーエッジ削除、レーザークリーン、レーザーアブレーション (LLO、レーザーリフトオフ、LDB、レーザーデボンディング / レーザーアブレーション)
高精度応用製品:FPDパネルディスプレイ(LTPS、SLS、OLED、AMOLED、Micr-LEDディスプレイ)、IGBT、CMOSセンサー、X線センサー、GaN LED、太陽光発電(PVソーラー)、半導体(Semiconductor)、電子ペーパー(Eペーパー)
レーザーの種類:UVレーザー(266nm、355nm)、緑色レーザー(532nm)、赤色レーザー(1064nm)、フェムトレーザー(Femto laser)、ピコ秒レーザー(Pico Laser)、ディスクレーザー(DISC Laser)、ファイバーレーザー(Fiber Laser) 、エキシマレーザー(エキシマレーザー)
光学系:エキシマレーザー管窓、ビームスプリッター、OCレンズ、レーザーテンパリング窓(アニーリング窓、封止窓、投影窓)
アクティブなメディアのステータスに応じて次のカテゴリに分類されます。
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ガスレーザー:CO2レーザー、HeNeレーザー
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固体レーザー:ルビーレーザー、Nd:Yagレーザー、Yb:Yagレーザー
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半導体レーザー:35族半導体および26族半導体からなるレーザー(固体レーザーに分類される場合もあります)
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液体レーザー: 色素レーザー 色素レーザー
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その他: エキシマ レーザー、またはガス レーザー、フォトニック結晶レーザー、X 線帯域の自由電子レーザーとして分類できます。
新たに開発されたさまざまなレーザーも、ディスクレーザー、ファイバーレーザー、フェムトレーザー、ピコレーザーなど、その特性に応じてさまざまな名前が付けられています。
波長に応じて、赤色レーザー、緑色レーザー、紫外線レーザー UV レーザー、NUV、 DUV、極紫外線レーザー EUV とも呼ばれます。