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Collaborating at Work

レーザーシステムのアプリケーション

固体レーザーおよびエキシマレーザー技術を応用したシステム製品で、レーザー精密加工プロセス向けにカスタマイズされた統合ソリューションを提供します。レーザー光源を使用する技術には、精密な光学システムの設計と正しいレーザー光源の選択が必要です。高安定・高精度位置決めプラットフォームの統合、製造プロセスに応じた精密レーザー加工システムのシステム統合・最適化を実現します。

  • 機械システム設計・開発

  • アプリケーションソフトウェア制御開発

  • 光学レンズシステムの設計・開発

  • レーザー光源の統合

  • 高精度位置決めシステム光源統合

プロセスアプリケーション:エキシマレーザーテンパリングELA、DPSSレーザースクライビング(レーザー切断、レーザースクライビング)、レーザードリリング(レーザードリリング)、レーザーパターン処理(レーザーパターニング)、レーザー金属穴あけ、レーザーレーザー切断、レーザーエッジ削除、レーザークリーン、レーザーアブレーション (LLO、レーザーリフトオフ、LDB、レーザーデボンディング / レーザーアブレーション)

高精度応用製品:FPDパネルディスプレイ(LTPS、SLS、OLED、AMOLED、Micr-LEDディスプレイ)、IGBT、CMOSセンサー、X線センサー、GaN LED、太陽光発電(PVソーラー)、半導体(Semiconductor)、電子ペーパー(Eペーパー)

レーザーの種類:UVレーザー(266nm、355nm)、緑色レーザー(532nm)、赤色レーザー(1064nm)、フェムトレーザー(Femto laser)、ピコ秒レーザー(Pico Laser)、ディスクレーザー(DISC Laser)、ファイバーレーザー(Fiber Laser) 、エキシマレーザー(エキシマレーザー)

光学系:エキシマレーザー管窓、ビームスプリッター、OCレンズ、レーザーテンパリング窓(アニーリング窓、封止窓、投影窓)

アクティブなメディアのステータスに応じて次のカテゴリに分類されます。

  • ガスレーザー:CO2レーザー、HeNeレーザー

  • 固体レーザー:ルビーレーザー、Nd:Yagレーザー、Yb:Yagレーザー

  • 半導体レーザー:35族半導体および26族半導体からなるレーザー(固体レーザーに分類される場合もあります)

  • 液体レーザー: 色素レーザー 色素レーザー

  • その他: エキシマ レーザー、またはガス レーザー、フォトニック結晶レーザー、X 線帯域の自由電子レーザーとして分類できます。

新たに開発されたさまざまなレーザーも、ディスクレーザー、ファイバーレーザー、フェムトレーザー、ピコレーザーなど、その特性に応じてさまざまな名前が付けられています。

波長に応じて、赤色レーザー、緑色レーザー、紫外線レーザー UV レーザー、NUV、  DUV、極紫外線レーザー EUV  とも呼ばれます。

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