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エキシマレーザーガス

エキシマレーザーガス

エキシマレーザーガスの選択。異なるレーザー波長に応じて、異なるガスがレーザーキャビティに注入されます。

  • 308nm: HCL + XE

  • 248nm:KrF

  • 193nm:ArF

さらに、ヘリウムガスまたはネオンガスによってキャビティ内の洗浄と浄化が促進されます。

Excimer Laser Gases EmbeddedImage.jpg

エキシマレーザーガス

当社では、クリプトン、ネオン、キセノンの高純度希ガスを輸入し、主にエキシマレーザー用ガス製品に使用される高純度特殊ガスを使用し、お客様のニーズに合わせた高純度エキシマレーザー用混合ガスを提供しております。半導体製造におけるリソグラフィー工程。エキシマレーザー装置の主要ブランド:CYMER、Gigaphoton、COHERENT、Lambda Physik、LEDオプトエレクトロニクスおよびLCDパネルディスプレイの製造プロセスに適用されます。適用分野は、低温ポリシリコンとAMOLED、AMEPDの製造であり、ELAレーザーテンパリングプロセスとリフトオフ剥離プロセスは、新世代フレキシブルディスプレイの製造に使用されています超薄ガラス基板を含むデュラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ、プラスチック基板フレキシブルディスプレイ、使い捨てディスプレイ、および透明フレキシブルディスプレイなどの多くの新技術アプリケーション。

レーザー元素分析分光装置。同位体分離、光化学、医学、生物学、マイクロエレクトロニクス産業のレーザー穴あけおよび切断装置の応用装置。エキシマレーザーによる近視治療、視力矯正手術、皮膚治療などに応用される機器です。

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