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準分子雷射氣體
Excimer Laser Gases
準分子雷射氣體的選擇, 依不同雷射的波長雷射腔內會注入不同的氣體
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308nm: HCL + XE
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248nm: KrF
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193nm: ArF
此外, 腔體內的清潔純化, 則以He氦氣或Ne氖氣為輔助
準分子雷射氣體
我司以進口高純度稀有氣體:氪,氖和氙氣, 並提供高純度準分子雷射混合氣體, 滿足客戶需求,高純度特殊氣體主要用於準分子雷射氣體之氣體產品。半導體製造中的微影製程。應用於準分子雷射設備主要品牌 CYMER, Gigaphoton, COHERENT, Lambda Physik. LED光電及液晶面板顯示器製程。應用領域於低溫多晶矽與AMOLED, AMEPD製造. ELA雷射回火製程, Lift Off剝離製程於新世代可撓折顯示器製造. 包含超薄玻璃基板Durable Display, Bendable Display 及塑膠材基板 Flexible Display, Disposable Display 以及 Transparent-Flexible Display 等多項新科技應用.
雷射元素分析光譜儀設備。應用設備於同位素分離、光化學、醫學、生物學、微電子工業 雷射鑽孔及切割設備。準分子雷射治療近視眼, 視力矯正手術及皮膚治療之設備運用。
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